國(guó)外知名石墨烯企業(yè)Graphenea日前開始對(duì)外銷售GFETs(石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管)新產(chǎn)品。Graphenea提供的GFETs(石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管)可以為氣體傳感器、生物傳感器或其他傳感器領(lǐng)域的科學(xué)研究提供高質(zhì)量的GFET器件。
國(guó)外知名石墨烯企業(yè)Graphenea日前開始對(duì)外銷售GFETs(石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管)新產(chǎn)品。該舉措進(jìn)一步降低了石墨烯應(yīng)用的障礙,特別是在傳感器市場(chǎng)。 Graphenea提供的GFETs(石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管)可以為氣體傳感器、生物傳感器或其他傳感器領(lǐng)域的科學(xué)研究提供高質(zhì)量的GFET器件。
Graphenea已經(jīng)上市的兩種用于傳感器領(lǐng)域的石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管包括兩種標(biāo)準(zhǔn)的GFET-for-sensing配置,稱為GFET-S10和GFET-S20,每種均包括位于一平方厘米芯片上36個(gè)獨(dú)立的GFET,但器件布局不同。GFET-S10的器件均勻分布在芯片上,GFET-S20則集成在芯片中心,芯片邊緣有電氣焊盤。GFET-S20器件都具有用于探測(cè)電氣特性的雙探頭幾何結(jié)構(gòu),而GFET-S10則包含30個(gè)霍爾條幾何結(jié)構(gòu)的器件和6個(gè)具有雙探頭幾何結(jié)構(gòu)的器件。除了石墨烯器件研究,生物電子學(xué),生物傳感,化學(xué)傳感以及雙探頭幾何結(jié)構(gòu)允許的光電探測(cè)器之外,霍爾棒還可以進(jìn)行磁場(chǎng)傳感。
在接下來(lái)的幾個(gè)月里,Graphenea計(jì)劃推出定制設(shè)計(jì)服務(wù),為同樣高質(zhì)量的GFET提供量身定制的安排。
Graphenea的新器件具有1000cm2 / V * s以上的特定載流子遷移率,低于2×1012cm-2的殘余電荷載流子密度,10至40V的狄拉克點(diǎn)以及高于75%的產(chǎn)率。 GFET是在標(biāo)準(zhǔn)的Si /SiO2襯底上制作的,具有Ni / Al金屬觸點(diǎn)。
$385.00
GFET-S20(裸片尺寸10 mm x 10 mm) - 經(jīng)過1000級(jí)無(wú)塵室處理
Graphenea的GFET-S20芯片提供36個(gè)石墨烯器件,分布在四個(gè)象限中,器件位于芯片中心,探針焊盤位于芯片外圍附近。 所有設(shè)備都是雙探頭設(shè)備幾何形狀。
這些器件被安排在GFET-S20中,以允許在石墨烯器件的頂部上施加液滴而不覆蓋襯墊以在液體環(huán)境中進(jìn)行測(cè)量或使用液體介質(zhì)對(duì)器件進(jìn)行功能化。
性能參數(shù):
·生長(zhǎng)方法:CVD合成
·芯片尺寸:10mm×10mm
·芯片厚度:675μm
·每個(gè)芯片的GFET數(shù)量:36
·柵氧化層厚度:90納米
·柵極氧化物材料:SiO2
·基體電阻率:1-10Ω.cm
·金屬化:鎳/鋁140納米
·石墨烯場(chǎng)效應(yīng)遷移率:> 1000 cm2 / V.s
·殘余電荷載體密度:<2×1012 cm-2
·Dirac點(diǎn):10-40伏
·收率:> 75%
$385.00
GFET-S10(裸片尺寸10 mm x 10 mm) - 經(jīng)過1000級(jí)無(wú)塵室處理
Graphenea公司的GFET-S10芯片在芯片上提供了36個(gè)以網(wǎng)格模式分布的石墨烯器件。 三十個(gè)設(shè)備具有霍爾條幾何形狀,六個(gè)具有兩個(gè)探頭幾何形狀。 霍爾棒設(shè)備可用于霍爾棒測(cè)量以及4探針和2探針設(shè)備。 有不同的石墨烯通道尺寸可以調(diào)查幾何結(jié)構(gòu)對(duì)器件性能的依賴性。
性能參數(shù):
·生長(zhǎng)方法:CVD合成
·芯片尺寸:10mm×10mm
·芯片厚度:675μm
·每個(gè)芯片的GFET數(shù)量:36
·柵氧化層厚度:90納米
·柵極氧化物材料:SiO2
·基體電阻率:1-10Ω.cm
·金屬化:鎳/鋁140納米
·石墨烯場(chǎng)效應(yīng)遷移率:> 1000 cm2 / V.s
·殘余電荷載體密度:<2×1012 cm-2
·Dirac點(diǎn):10-40伏
·收率:> 75%
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